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色漿涂料鋯珠研磨:研磨時(shí)間對UV噴墨色漿分散穩(wěn)定性和粒徑分布的影響
來源:賽諾鋯珠 | 作者:珠小白 | 發(fā)布時(shí)間: 2021-10-13 | 1032 次瀏覽 | 分享到:
UV噴墨色漿的分散穩(wěn)定性對成品UV油墨的質(zhì)量有著密切聯(lián)系,色漿分散穩(wěn)定能夠保證油墨體系分散細(xì)致均勻,進(jìn)而直接影響噴墨的各項(xiàng)性能。因此色漿分散穩(wěn)定性是UV噴墨優(yōu)勢的基礎(chǔ)保障,而分散劑、研磨時(shí)間、儲(chǔ)存時(shí)間對UV噴墨色漿分散穩(wěn)定性具有重大影響,由于賽諾的鋯珠對色漿的研磨效果比較好,本次采用賽諾的鋯珠對色漿的研磨時(shí)間和平均粒徑進(jìn)行測試。

鋯珠研磨時(shí)間對UV噴墨色漿穩(wěn)定性的影響

UV噴墨色漿的分散穩(wěn)定性對成品UV油墨的質(zhì)量有著密切聯(lián)系,色漿分散穩(wěn)定能夠保證油墨體系分散細(xì)致均勻,進(jìn)而直接影響噴墨的各項(xiàng)性能。因此色漿分散穩(wěn)定性是UV噴墨優(yōu)勢的基礎(chǔ)保障,而分散劑、研磨時(shí)間、儲(chǔ)存時(shí)間對UV噴墨色漿分散穩(wěn)定性具有重大影響,由于賽諾鋯珠對色漿的研磨效果比較好,本次采用賽諾鋯珠對色漿的研磨時(shí)間和平均粒徑進(jìn)行測試

鋯珠研磨時(shí)間對UV噴墨色漿穩(wěn)定性的影響


分析可知,分散劑685效果較優(yōu),其分散的粒徑大小及平均粒徑較小,并且在粒徑分布上集中于平均粒徑的程度也較好,這里以分散劑685作為研究對象,研究研磨時(shí)間的影響。

結(jié)果見圖。由圖可知,在實(shí)驗(yàn)條件下,分散劑685在研磨時(shí)間60,75,90min下的有效粒徑分別為324.0,281.7,299.0nm,半峰寬分別為24.6,20.7,20.9nm,從有效粒徑可知,氧化鋯珠研磨時(shí)間為75min時(shí),色漿有效粒徑較小,分散效果較佳,隨著研磨進(jìn)行,預(yù)聚物逐漸填充色漿粒子分散的間隙,隨體系達(dá)到均勻分散狀態(tài)。從粒徑分布集中程度看,75min時(shí)半峰寬比較小,表明分散粒子的粒徑大小集中于平均粒徑左右,并且有效粒徑和半峰寬具有相似的走向,可見兩者存在一定聯(lián)系。由圖可知,隨著測量的進(jìn)行,平均粒徑都有增加的趨勢,但比較緩慢,并且研磨時(shí)間為75min時(shí),平均粒徑較小,短時(shí)間內(nèi)隨研磨時(shí)間增加,粒徑減少,一定程度后由于粒徑小帶來比表面能大,導(dǎo)致粒徑大小隨粒子聚集而增大。從粒徑評價(jià)考慮,研磨時(shí)間為75min時(shí)的粒徑分散效果好。所以,該分散劑的最佳研磨時(shí)間的75min,即在最佳時(shí)間下研磨得到的分散色漿粒徑最小。綜上在分散劑為685且研磨時(shí)間為75min的條件下研磨效果最佳,可得到最佳分散效果。

 


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